在当今科技蓬勃发展的半导体行业中，易科微正稳步前行，走出了一条扎实且充满希望的发展道路，其历程中的每一步都镌刻着奋斗与突破的印记。
2018年，易科微电子怀揣着对半导体行业的热忱与憧憬，开启了长达五年的产品研发征程。当时的半导体领域，技术日新月异，竞争异常激烈，要想在其中闯出一片天地并非易事。但易科微的研发团队并没有丝毫退缩，他们凭借专业的知识和坚定的信念，全身心地投入到研发工作中。这五年里，面对数不清的技术难题，团队成员们相互协作，查阅大量资料，反复进行实验论证。每一次遇到瓶颈，大家都会冷静分析，积极寻找解决方案，不放过任何一个可能突破的细节。正是这五年如一日的默默耕耘，为易科微后续的发展奠定了坚实的技术基础。
2023年7月，易科微电子（深圳）有限公司正式注册成立，这是公司发展历程中的一个重要里程碑。它意味着此前多年的研发积累有了一个正式的承载主体，也标志着易科微正式踏入半导体行业的竞争舞台，准备在这片广阔天地中大展身手。
就在同年11月，易科微迎来了首个重大成果——成功申请7项发明专利。这些专利凝聚着研发团队的智慧与心血，涵盖了公司核心产品的关键技术，是对易科微研发实力的有力证明。凭借这些专利，易科微在行业内开始崭露头角，吸引了众多合作伙伴和潜在客户的关注，为后续产品推向市场营造了良好的开端。
到了12月，易科微又迈出了关键的一步，首次推出单体的RIE反应离子刻蚀机和单体的PECVD等离子化学气相沉积等半导体设备。这些设备在相应领域达到了行业先进水平，具备精准的工艺控制能力、高效的生产效率以及稳定的性能表现，一经推出便受到市场的认可和欢迎。
进入2024年，易科微的发展步伐愈发稳健且快速。2月，公司根据市场反馈和行业发展趋势，适时推出RIE和PECVD系列设备的双腔型号。这一举措不仅丰富了公司的产品线，更能满足不同客户对于半导体设备多样化、定制化的需求，进一步提升了易科微在市场中的竞争力。
6月，易科微继续发力，成功上线ICP和ICP CVD等半导体设备的单体和双腔系列产品，拓宽了产品覆盖范围，能够为更多客户提供全面的半导体设备解决方案，公司在行业内的影响力也随之不断扩大。10月，离子束刻蚀和离子束沉积设备的上线，再次彰显了易科微强大的技术研发实力。这两款设备的加入，使得公司的产品体系更加完善，能够从多个维度助力半导体制造企业提升生产工艺水平，巩固了易科微在行业内的领先地位。
2024年12月，公司官方网站成功搭建完成。官网作为展示公司形象、产品和服务的重要窗口，方便了客户、合作伙伴以及行业同仁更便捷地了解易科微的整体情况，也为公司进一步拓展业务、加强对外交流合作提供了有力的平台支撑。
回顾易科微一路走来的发展历程，每一个阶段都是脚踏实地、稳扎稳打的成果。从默默无闻到逐渐崭露头角，再到在行业内占据一席之地，易科微凭借的是对技术研发的重视、对产品质量的严格把控以及对市场需求的敏锐洞察。相信在未来的日子里，易科微将继续秉持初心，砥砺前行，在半导体行业持续发光发热，创造更为辉煌的成就。