2025年3月26日，慕尼黑上海电子生产设备展于上海新国际博览中心盛大开幕。作为电子制造领域的年度盛会，它不仅是展示前沿技术与创新产品的舞台，更是行业内各方交流合作、洞察未来趋势的重要平台。
上海慕尼黑电子生产设备展自创办以来，规模与影响力逐年递增。在国际上，它吸引了来自欧美、日韩等半导体强国的顶尖企业踊跃参与，有力推动了国际间的技术交流与合作。上海慕尼黑展会已成为半导体及电子制造行业发展的风向标，众多国内企业借助这一平台展示自主研发成果，实现技术突破后的市场推广，加速了我国半导体产业与国际接轨的步伐，促进了国内产业链的完善与升级。
与往年相比，本次展会亮点纷呈。一方面，在技术展示上，对半导体先进制程技术的聚焦程度远超以往，特别是针对 3nm 及以下制程工艺的设备与材料展示区域显著扩大，反映了行业对更先进芯片制造技术的探索与追求。另一方面，展会增设了 “绿色电子制造” 专区，强调在电子生产过程中节能减排、可持续发展的理念，众多企业展示了环保型生产设备与工艺，契合当下全球绿色发展的大趋势。此外，线上线下融合的展览模式在本届展会进一步深化，通过线上平台，全球观众都能实时观展、参与论坛讨论，极大地拓展了展会的覆盖范围。
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易科微在此次展会上表现亮眼。其展位设计极具科技感，以蓝色为主色调，搭配动态光影效果，瞬间抓住参观者的目光。展位现场，核心的刻蚀和沉积设备前围满了专业观众。工作人员借助实物演示以及现场操作讲解，详细介绍设备性能。为了此次展会，易科微携两款极具特色的设备模型精彩亮相，它们分别是 RIE 反应离子刻蚀机和 PECVD 等离子体化学气相沉积设备。RIE 反应离子刻蚀机有着诸多显著特点与优势。其一，它具备高精度的刻蚀能力，能够精准地对材料进行微观层面的刻蚀处理，在半导体等精细加工领域，可以实现微米甚至纳米级别的图案刻画，有效保证了产品的高精度要求。其二，刻蚀的均匀性良好，无论在大面积还是小区域的材料表面进行操作，都能确保各部分刻蚀程度相对一致，避免出现局部差异过大的情况，极大提升了成品质量。其三，它的工艺可控性强，操作人员可根据不同的材料和工艺需求，灵活调整各项参数，满足多样化的生产要求。
PECVD 等离子体化学气相沉积设备同样表现亮眼。它的优势首先在于能够在相对较低的温度下进行薄膜沉积，这对于一些对温度敏感的衬底材料来说至关重要，可有效避免高温对材料性能造成不良影响。其次，沉积速率较快，能高效地在基底上形成高质量的薄膜，提高生产效率。再者，其成膜质量优异，所沉积的薄膜在致密度、均匀性等方面都有着出色表现，为后续的电子器件制造等环节打下坚实基础。
易科微电子的这两款设备模型，无疑在电子设备领域展现出了强大的技术实力与应用潜力。
从市场发展趋势来看，随着国家政策大力扶持半导体产业，以及 5G、人工智能、物联网等新兴产业蓬勃发展带来的庞大需求，国内半导体市场正处于快速增长阶段。本土企业不断加大研发投入，在中低端芯片制造设备领域逐渐实现国产化替代，未来有望在高端领域取得更多突破。放眼国外，欧美等传统半导体强国凭借深厚的技术积累，在高端芯片设计、制造设备核心技术方面仍占据主导地位。同时，日韩企业在存储芯片制造设备与显示面板相关半导体设备领域优势明显。全球半导体市场呈现出竞争激烈、技术不断细分与专业化的态势，国际巨头之间的技术竞赛以及新兴市场的崛起，共同推动着半导体产业持续向前发展。易科微此次参展，正是顺应市场趋势，借助展会平台展示实力，为拓展国内外市场、提升品牌影响力迈出坚实一步。