IBSD-100 双离子束溅射辅助沉积镀膜是在单离子束溅射技术的基础上发展起来的，在主溅射源基础上增加辅助离子源。可用于溅射沉积各种金属、合金、Ⅲ-Ⅴ族 化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜，也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜。
