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PL-200(RIE) 反应离子刻蚀机是半导体工艺中的核心设备之一。在半导体制造工艺中,它利用等离子体能量对硅片进行精细加工,是制造微电子器件的关键步骤。等离子刻蚀机具有高度的精度,可以在微观水平上创建极其复杂的图案。等离子体蚀刻机在半导体行业中的应用非常广泛。它不仅可以用于蚀刻半导体材料,如硅和磷等,还可以用于制造芯片和电路。此外,反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统(MEMS)和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。

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