IBE-75 离子束刻蚀机以其高精度和高可控性，在半导体制造、微电子与光电子、MEMS（微机电系统）、生物医学、纳米材料制备、数据存储与磁记录以及航空航天等多个高科技和工业领域发挥着关键作用。它利用高能离子束对材料表面进行轰击，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀的目的。这种刻蚀技术能够制造出极细微的器件结构，提高芯片的性能和稳定性，同时也可在各类材料的表面制造纳米级结构，如纳米线、纳米孔等，这对于纳米电子学、生物医学等领域具有重要意义。此外，离子束刻蚀机还可用于光学器件制造，对光学器件的表面进行微小处理，改善表面质量，制造精细结构，从而提高光学器件的性能和效率。